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钼靶材是一种工业材料，广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。钼材料主要用在真空高温行业，电子行业，蓝宝石热场及航空航天制造行业等，钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后，钼的密度基本上接近于理论密度，因此其具有高强度，内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能，被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏，盖板真空炉内的反射屏，发热带，连接件，等离子镀膜用的溅射靶材，耐高温舟皿等制品。
钼靶材是一种工业材料，广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。钼材料主要用在真空高温行业，电子行业，蓝宝石热场及航空航天制造行业等，钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后，钼的密度基本上接近于理论密度，因此其具有高强度，内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能，被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏，盖板真空炉内的反射屏，发热带，连接件，等离子镀膜用的溅射靶材，耐高温舟皿等制品。
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