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| 产品： | 钽板，钽片，钽带，钽箔 |
| 标准： | Ta1，Ta2，R05200，R05400，R05255，R05252，Ta2.5W，Ta7.5W，Ta10W |
| 尺寸： | 支持定制 |
| 用途： | 用于制作真空高炉用发热部件、隔热部件和装料器皿，在化学工业中可用于制作蒸煮器、加热器、冷却器、各种器皿器件等，以及在航空、航天工业、医疗器械等领域有广泛应用。 |
钽及其各种合金制品：
1、 名称：钽颗粒、钽板，氧化钽靶材、钽片，钽带，钽箔、钽棒、钽加工件、钽螺丝
2、 牌号：Ta1，Ta2，R05200，R05400，R05255，R05252，Ta2.5W，Ta7.5W，Ta10W
3、 技术条件：符合GB3269-83(钽及钽合金板材、带材和箔材)，
GB/T3628-1995(钽及钽合金箔材)，
ASTM B708-92(钽和钼合金中厚板、薄板、带材和箔材)
4、 用途：用于制作真空高炉用发热部件、隔热部件和装料器皿，在化学工业中可用于制作蒸煮器、加热器
产品名称：钽靶材钽圆
牌号：Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
标准：GB/3629-2006
纯度：≥99.95%
状态：退火态（M）或硬态（Y）
尺寸：
外径（mm） | 厚度（mm） | 表面粗糙度 | 平面度 |
50~400 | 3~50 | 32Rms | ≤0.15% |
注：特殊产品需供需双方协商解决。 | |||
成分要求：
牌号 | 元素含量 (质量分数%) | |||||||||||
C | N | O | H | Fe | Si | Ni | Ti | Mo | W | Nb | Ta | |
Ta1 | 0.01 | 0.005 | 0.015 | 0.0015 | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.05 | 余量 |
Ta2 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 0.1 | 余量 |
TaNb3 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.03 | 0.04 | 1.5~3.5 | 余量 |
TaNb20 | 0.02 | 0.025 | 0.03 | 0.005 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.005 | 0.02 | 0.04 | 17~23 | 余量 |
TaNb40 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 0.05 | 35~42 | 余量 |
TaW2.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 2.0~3.5 | 0.5 | 余量 |
TaW7.5 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 6.5~8.5 | 0.5 | 余量 |
TaW10 | 0.01 | 0.01 | 0.015 | 0.0015 | 0.01 | 0.005 | 0.01 | 0.01 | 0.02 | 9.0~11 | 0.1 | 余量 |
应用：钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材，化学纯度高，晶粒尺寸小，再结晶组织和三个轴向的一致性好，
主要应用于光导纤维，半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜，钽靶材可用于阴极溅射涂层，高真空吸气活性材料等.
钽及其各种合金制品：
1、 名称：钽颗粒、钽板，钽圆、钽片，钽带，钽箔、钽棒、钽加工件、钽螺丝
2、 牌号：Ta1，Ta2，R05200，R05400，R05255，R05252，Ta2.5W，Ta7.5W，Ta10W
3、 技术条件：符合GB3269-83(钽及钽合金板材、带材和箔材)，
GB/T3628-1995(钽及钽合金箔材)，
ASTM B708-92(钽和钼合金中厚板、薄板、带材和箔材)
4、 用途：用于制作真空高炉用发热部件、隔热部件和装料器皿，在化学工业中可用于制作蒸煮器、加热器、
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